CMP抛光液
4个月前化学机械抛光（CMP）是一种广泛应用于半导体制造中的技术，用于平坦化晶圆表面。CMP工艺结合了化学腐蚀和机械研磨两种作用，以达到极高的表面平整度。在这过程中，抛光液扮演着至关重要的角色。本文将详细 …
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化学机械抛光（CMP）是一种广泛应用于半导体制造中的技术，用于平坦化晶圆表面。CMP工艺结合了化学腐蚀和机械研磨两种作用，以达到极高的表面平整度。在这过程中，抛光液扮演着至关重要的角色。本文将详细 …